- 연구실 소개
- Plasma & Device 연구실은 2006년에 설립 되어 지도 교수님인 홍문표 교수님의 지도 아래 지금까지 4명의 박사과정, 12명의 석사 졸업생을 배출하였고, 졸업 후, SAMSUNG Display, LG Display등의 Display 관련 분야에서 활동하고 있습니다. 현재 1명의 박사 연구원, 5명의 박사과정 연구원과 3명의 석사과정 연구원으로 구성되어 국내기관인 ㈜노마디엔, ㈜LG화학, ㈜아이컴포넌츠, ㈜동진쎄미켐, ㈜코오롱인더스트리, ㈜삼성디스플레이, ㈜LG디스플레이 등과 해외기관인 FH-ISC(독일), CPI(영국) 등 협력하여 국제공동기술개발사업, 산업융합원천기술개발사업, WPM 사업, 이공분야 대학연구소 지원사업, BK21플러스사업을 진행 중이며 차세대 Flexible Electric Device에 필요한 차세대 초박막트렌지스터(TFT) 기술, 핵심 Micro-Electronics Device(디스플레이, 태양광소자, 반도체소자) 기술, 그리고 신개념 Plasma Technology를 접목시킨 새로운 반도체 공정 기술 관련 분야에서 국제적인 핵심 선도 기술 연구에 매진하고 있습니다.
- 연구분야 (Research Interest)
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- Research Interest
- Display, Semiconductor
- Project
- 국제공동기술개발사업, 산업융합원천기술개발사업, WPM 사업, 이공분야 대학연구소 지원사업, BK21플러스사업
- Research Interest
- 연구실 구성원
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현재
- 장진녕 (Jin Nyoung Jang : 연구교수) : nic4004@korea.ac.kr
- 최낙초 (NakCho Choi : 박사과정) : nakcho@naver.com
- 김형진 (Hyoungjin Kim : 박사과정) : plasmafox@korea.ac.kr
- 이동혁 (DongHyeok Lee : 박사과정) : congdall@korea.ac.kr
- 장윤성 (YunSung Jang : 박사과정) : plasmalab09@gmail.com
- 윤호원 (HoWon Yoon : 박사과정) : yhw922@yahoo.co.kr
- 양경환 (Kyung Hwan Yang : 석사과정) : pj3812@hanmail.net
- 윤장원 (JangWon Yun : 석사과정) : yunjangwon@korea.ac.kr
- 김경덕 (KyungDuck Kim : 석사과정) : kkd6295@naver.com
- 연구실 졸업생 (과정 : 졸업년도)
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- 이유종 (Ph. D : 2011) : SAMSUNG Display
- 김동우 (Ph. D : 2011) : SAMSUNG Display
- 장진녕 (Ph. D : 2011) : 고려대학교 응용물리학과 연구교수
- 김두현 (Ph. D : 2014) : SAMSUNG Display
- 김건수 (M.S. : 2010) : 원익 IPS
- 양이홍 (M.S. : 2010)
- 김주형 (M.S. : 2010) : Display Bank
- 김형진 (M.S. : 2011) : 고려대학교 응용물리학과 박사과정 재학중
- 이동혁 (M.S. : 2011) : 고려대학교 응용물리학과 박사과정 재학중
- 송병철 (M.S. : 2011) : LG Display
- 이준영 (M.S. : 2012) : 큐빅레이저시스템
- 장윤성 (M.S. : 2012) : 고려대학교 응용물리학과 박사과정 재학중
- 소현욱 (M.S. : 2012) : LG Display
- 박효주 (M.S. : 2012) : 한국표준협회
- 윤수복 (M.S. : 2014)
- 윤호원 (M.S. : 2012) : 고려대학교 응용물리학과 박사과정 재학중
- 연구실 연구업적
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SCI Journal
- 2014/ Chemical Communications / 14.8% perovskite solar cells employing carbazole derivatives as hole transporting materials
- 2014/ Journal of Nanoscience and Nanotechnology / Characteristics of room temperature silicon nitride deposited by Internal Inductively Coupled Plasma Chemical vapor Deposition
- 2014/ Current Applied Physics / Precise control over oxygen impurities in nano-crystalline silicon thin film processed with a low hydrogen dilution gas system at near room temperature
- 2014/ Applied Physics Express / Effects of bombardment of negative oxygen ions on amorphous indium gallium zinc oxide thin films by superimposed rf/dc magnetron sputtering
- 2013/ Surface and Coatings Technology / Effect of boron and silicon doping on the surface and electrical properties of diamond like carbon films by magnetron sputtering technique
- 2012/ Current Applied Physics / Low-temperature (<150℃) fabrication of amorphous IGZO TFTs via high density CVD and superimposed rf/dc magnetron sputtering
- 2012/ Current Applied Physics / Low-temperature (<150℃) fabrication of amorphous IGZO TFTs via high density CVD and superimposed rf/dc magnetron sputtering
- 2012/ Current Applied Physics / New approaches for micro-controlling of oxygen dopant contents in silicon-based thin films with application to multi-band gap solar cells
- 2012/ Journal of Materials Research / Compensation effect of boron and nitrogen codoping on the hardness and electrical resistivity of diamond-like carbon films prepared by magnetron sputtering deposition
- 2012/ Thin Solid Films / Effect of the high vacuum seasoning process on poly (4-vinyl phenol) as Organic Gate Dielectric in all solution-processed organic thin-film transistors
- 2012/ Applied Physics Express / Role of Adsorbed H2O on Transfer Characteristics of Solution-Processed Zinc Tin Oxide Thin-Film Transistors
- 2012/ Ceramics International / Effect of plasma source power on the nanocrystallization of silicon thin films by reactive particle beam assisted chemical vapor deposition